ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。

ITO靶材的基本介绍：

主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）

应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等

靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）

ITO靶材回收的必要性

1. 资源稀缺：铟为稀有金属，资源有限，价格昂贵。

2. 成本控制：回收废旧ITO靶材可降低企业原材料采购成本。

3. 环保要求：减少废弃物排放，符合绿色生产理念。

ITO靶材主流回收技术：

机械物理分离：适合较厚靶层，回收效率高。

湿法化学回收：利用酸碱进行溶解分离，适合大批量废靶材。

热处理工艺：部分回收方案采用高温分离，能耗较大。